
PLATECT®
軽く、強く、長く使える。焼成の現場を変えるセッターPLATECT®
電子機器に不可欠なセラミックコンデンサ。その焼成時に使用されるジルコニア質セッターの短所を克服すべく、当社では1980年代からPLATECT®の開発に取り組んできました。
PLATECT®
コンデンサなど、電子部品の製造では1000度を超える焼成炉で焼成を行います。PLATECT®は、この時に、電子部品を載せる容器(以下セッター)として開発されました。
従来のジルコニア質セッターと比較して軽量で熱伝導率が高く、冷間スプレー法による皮膜と比べて皮膜が長持ちすることが特徴です。
特にMLCC(積層セラミックコンデンサ)の焼成における世界シェアは約40%(推定)という高いシェアを誇っています。
バリスタやサーミスタなど、MLCC以外の電子部品焼成にも使用されるほか、金属部品の熱処理でも導入事例があります。
PLATECT®の外観
PLATECT®の構造略図と使用イメージ
PLATECT®の
PLATECT®は従来のジルコニア質セッターと比較して、セッターの熱伝導率が向上しています。これによって、炉床側から伝えられる熱が被焼成物にスムーズに伝わるため、焼成工程でのエネルギー効率が改善されます。省エネの結果、CO₂の削減につながります。
焼成時における熱伝導のイメージ
また、従来はセッター全体に使用されていたジルコニアを、PLATECT®ではコーティング部分のみに減らしたことで、ジルコニア材料に多く使用される希土類安定化材料(酸化イットリウム)の消費量を削減できることから、コスト削減にもつながります。
PLATECT®はコーティング法をプラズマ溶射法とすることで、従来の冷間スプレー法による皮膜と比べて、緻密かつ基材にしっかりと食い込んだ丈夫な皮膜を形成します。
皮膜断面写真
これにより、皮膜(セッター)の寿命が延びるため、セッターの交換作業を減らすことができます。交換作業で発生するアイドリングタイムを減らすことで、焼成工程での生産性向上・コスト削減に貢献します。
また、軽量化により1枚当たりのセッター重量が軽くなったことで、交換作業を行う作業員への身体的な負担を軽減することもできます。
さらに、炉床への負荷が低減しますので、より多くのセッターの積載を検討することも可能になります。
焼成炉内でのセッター積載例
PLATECT®の
PLATECT®のインタビュー
(チームメンバーインタビュー)
PLATECT®の
特徴
従来のマグネシアカーボン質れんがに比べて、内部の亀裂が拡大しにくく、破壊されにくい耐火物れんがです。
特徴
乾燥工程が不要なため、使用する前の加熱時間を大幅に短縮でき、炉の立ち上げが容易になる画期的な不定形耐火物です。
特徴
浸漬ノズルなどとして使用され、溶鋼内の不要な物質(介在物)がノズルに付きにくく、目詰まりしにくいという特徴があります。
特徴
暑熱環境下での重筋作業をロボットにより自動化し、作業の安全・安定・省力・改革を実現した製品です。
特徴
低熱膨張ガラスと同レベルの極めて低い熱膨張係数を持ち、より高い強度があるため、大型化しやすいという特徴があります。
特徴
非常に低い熱伝導率を持ち、優れた断熱性能を発揮する断熱材です。従来に比べて強度が高いという特徴があります。
特徴
MLCC(積層セラミックコンデンサ)焼成用で世界シェア約40%を誇る、熱伝導率が高く長寿命な、電子部品の焼成用容器です。
※「エネファーム」は東京ガス(株)、大阪ガス(株)、ENEOS(株)の登録商標です。