PLATECT®️|軽量で熱伝導率が高い電子部品焼成用の容器(セッター)

K-GenesisX®

PLATECT®

背景

PLATECT® シェイプ

PLATECT®の特徴

PLATECT®(プラテクト)は、電子部品焼成用ジルコニアコーティングセッターです。

コンデンサなど、電子部品の製造では1000度を超える焼成炉で焼成を行います。PLATECT®は、この時に、電子部品を載せる容器(以下セッター)として開発されました。

従来のジルコニア質セッターと比較して軽量で熱伝導率が高く、冷間スプレー法による皮膜と比べて皮膜が長持ちすることが特徴です。
特にMLCC(積層セラミックコンデンサ)の焼成における世界シェアは約40%(推定)という高いシェアを誇っています。
バリスタやサーミスタなど、MLCC以外の電子部品焼成にも使用されるほか、金属部品の熱処理でも導入事例があります。

PLATECT®の外観

「PLATECT®」の外観イメージ

PLATECT®の構造略図と使用イメージ

「PLATECT®」の構造略図と使用イメージ
背景

PLATECT®の導入メリット

1 焼成工程のエネルギー効率が改善され、CO₂削減

PLATECT®は従来のジルコニア質セッターと比較して、セッターの熱伝導率が向上しています。これによって、炉床側から伝えられる熱が被焼成物にスムーズに伝わるため、焼成工程でのエネルギー効率が改善されます。省エネの結果、CO₂の削減につながります。

焼成時における熱伝導のイメージ

エネルギー効率が改善されCO₂削減

また、従来はセッター全体に使用されていたジルコニアを、PLATECT®ではコーティング部分のみに減らしたことで、ジルコニア材料に多く使用される希土類安定化材料(酸化イットリウム)の消費量を削減できることから、コスト削減にもつながります。

2 セッターの交換作業の減少と積載数増加による、生産性向上&コスト削減

PLATECT®はコーティング法をプラズマ溶射法とすることで、従来の冷間スプレー法による皮膜と比べて、緻密かつ基材にしっかりと食い込んだ丈夫な皮膜を形成します。

皮膜断面写真

スプレー皮膜
スプレー皮膜
皮膜中に気孔が多く含まれ
基材との密着性も悪い
プラズマ溶射皮膜
プラズマ溶射皮膜
皮膜が緻密で基材に密着している

これにより、皮膜(セッター)の寿命が延びるため、セッターの交換作業を減らすことができます。交換作業で発生するアイドリングタイムを減らすことで、焼成工程での生産性向上・コスト削減に貢献します。

また、軽量化により1枚当たりのセッター重量が軽くなったことで、交換作業を行う作業員への身体的な負担を軽減することもできます。
さらに、炉床への負荷が低減しますので、より多くのセッターの積載を検討することも可能になります。

焼成炉内でのセッター積載例

セッター単重が軽くなることで、炉床への負担を低減。より多くのセッターの積載が可能。

K-GenesisX®

戦略商品